一、簡述
電子行業純水設備對水中的離子含量要求非常高，本係統采用先進的反滲透水處理設備技術，結合尖端的EDI，混床技術，使產水水質最高可達18.25兆歐，水質符合美國ASTM標準。目前我國電子工業部把電子級水質分為五個行業標準，分別為18MΩ•cm，15MΩ•cm，10MΩ•cm，2MΩ•cm和0.5MΩ•cm，以區分不同水質。
二、技術參數
產水水質：水質符合美國ASTM標準，電子工業部超純水水質標準18MΩ•cm，15MΩ•cm，10MΩ•cm，2MΩ•cm和0.5MΩ•cm五級。
產水水量：0.5-100T/H。
材 質：玻璃鋼 不鏽鋼 有機玻璃等。
三、工藝流程
1、預處理→反滲透→水箱→陽床→陰床→混床→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→精製混床→精密過濾器→用水對象。
2、預處理→一級反滲透→加藥泵( PH調節)→中間水箱→二級反滲透→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5 μ m精密過濾器→用水對象。
3、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5 μ m精密過濾器→用水對象。
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→精製混床→0.2或0.5 μ m精密過濾器→用水對象。
四、主要特點
該係統一切動作均在預設程序下自動進行，具備全自動功能。
係統結構布置緊湊，有效節約空間。
係統能耗低，製水成本低廉。
係統運行安全可靠，供水管路封閉，出水水質穩定。
電子行業純水設備的適用範圍生產半導體、光伏太陽能、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件等電子工業用超純水係統。
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